Два литографа EUV с высокой числовой апертурой завершили установку у ведущего производителя чипов.

10 октября 2024 года:—— Два литографа с высокой числовой апертурой (High NA) в экстремальном ультрафиолетовом диапазоне (EUV) недавно были успешно установлены на заводе ведущего производителя микросхем. Каждое из этих устройств стоит около 350 миллионов долларов США, что делает их одними из самых передовых и дорогих литографов в мире на данный момент.

Быстрое развертывание EUV-литографических установок с высокой числовой апертурой

По имеющимся данным, эти две литографические установки EUV с высокой числовой апертурой были доставлены на производственный завод в штате Орегон, США, в конце прошлого года, и ожидается, что они начнут работу к концу 2025 года. Эти машины считаются «апгрейдом» существующей технологии EUV, а не совершенно новым продуктом, что позволяет относительно быстро внедрять их в производство.

"Высокоапертурная EUV-литографическая система больше похожа на обновленную версию существующего EUV-оборудования, и мы ожидаем, что она будет быстро внедрена и применена", - заявил новый генеральный директор компании в своем недавнем публичном выступлении.

Инновационный метод сборки экономит время и затраты.

На недавно прошедшей международной конференции по оптике новый генеральный директор компании подробно рассказал о новом методе сборки литографических установок EUV с высокой числовой апертурой. Теперь эти устройства можно собирать непосредственно на площадке заказчика, без необходимости предварительной сборки у производителя с последующей разборкой и транспортировкой. Данный метод уже успешно применяется для относительно простых инструментов осаждения и травления, а для высокосложных литографических систем все еще находится в процессе оптимизации. Ожидается, что это позволит значительно сэкономить время и затраты, ускорив темпы развития литографов EUV с высокой числовой апертурой.

Модульный дизайн повышает универсальность и эффективность.

Основное различие между обычным оборудованием EUV-литографии и оборудованием EUV-литографии с высокой числовой апертурой заключается в стеке линз. Благодаря модульной конструкции пользователи могут заменять различные типы стеков линз в одном и том же базовом инструменте, включая обычные EUV-линзы, линзы с высокой числовой апертурой и линзы со сверхвысокой числовой апертурой. Такая конструкция не только повышает универсальность оборудования, но и обеспечивает значительную экономию затрат и сокращение времени установки, что в целом увеличивает прибыль.

Стабильное питание и эффективное производство

Вся необходимая инфраструктура для литографической установки EUV с высокой числовой апертурой уже развернута и введена в эксплуатацию, включая стабильный источник питания мощностью 740 Вт, с перспективой увеличения до 1000 Вт в будущем. Кроме того, система проверки фотошаблонов также запущена, что гарантирует готовность оборудования к производству без необходимости в дополнительной поддержке.

Прорыв в производительности чипов благодаря высокому размеру маски

В прошлом году эксперт по технологиям производства чипов на международной конференции предложил идею увеличения размера фотошаблона с 6 дюймов × 6 дюймов до 6 дюймов × 12 дюймов. В этом году данная технология получила активную поддержку нескольких компаний, занимающихся инфраструктурой фотошаблонов. Компания заявила, что использование фотошаблонов двойного размера станет легким прорывом для отрасли, ожидается, что это преодолеет ограничения высокоапертурной технологии на размер чипов и обеспечит повышение производительности на 40%.

Литографический аппарат с высокой числовой апертурой ускоряет производство.

Еще один директор по литографии сообщил, что в настоящее время на производственном заводе в Польше уже установлены две литографические системы EUV с высокой числовой апертурой. Эти две системы демонстрируют значительные улучшения по сравнению со стандартными литографическими системами EUV, и ожидается, что их установка будет проходить быстрее, чем первой системы. Вся необходимая инфраструктура уже готова, а система проверки фотошаблонов также начала работу, что позволит быстрее запустить литографические системы EUV с высокой числовой апертурой в производство.

Реакция в отрасли и перспективы на будущее

Хотя некоторые производители чипов временно откладывают внедрение EUV-литографов с высокой числовой апертурой из-за соображений стоимости, отраслевые аналитики прогнозируют, что по мере дальнейшего технологического прогресса и повышения эффективности производства эти компании будут вынуждены последовать примеру, чтобы сохранить конкурентоспособность в отрасли. Кроме того, ходят слухи, что внедрение литографов с высокой числовой апертурой поможет преодолеть текущие технологические ограничения и способствовать дальнейшему развитию закона Мура.

Совещание было воспринято как положительная новость в связи с запуском EUV-литографических систем с высокой числовой апертурой и общим технологическим прогрессом. Это не только способствует повышению точности и эффективности производства чипов, но и оказывает положительное влияние на акции производителей соответствующего оборудования. По мере роста мирового спроса на передовые литографические технологии в полупроводниковой отрасли успешное внедрение EUV-литографов с высокой числовой апертурой еще больше укрепит их лидирующие позиции в отрасли.